Aplicações específicas de limpadores de plasma

As máquinas de limpeza/decapagem de plasma geram plasma colocando dois eletrodos em um recipiente selado para criar um campo elétrico. Uma bomba de vácuo é usada para manter um certo nível de vácuo. À medida que o gás se torna cada vez mais rarefeito, a distância entre as moléculas e o livre movimento de moléculas ou íons também aumenta. Sob a influência do campo elétrico, esses íons colidem e formam plasma. Esses íons são altamente reativos, com energia suficiente para quebrar quase todas as ligações químicas, induzindo reações químicas em qualquer superfície exposta. Diferentes plasmas gasosos têm propriedades químicas diferentes. Por exemplo, o plasma de oxigênio é altamente oxidante, capaz de oxidar o fotorresiste para produzir gás, conseguindo assim um efeito de limpeza. O plasma de gás corrosivo possui excelente anisotropia, que atende aos requisitos de ataque químico. O tratamento com plasma produz brilho, daí o nome descarga luminosa.
O mecanismo de limpeza do plasma depende principalmente da “ativação” de partículas ativas no plasma para remover manchas superficiais. Em termos do mecanismo de reação, a limpeza do plasma geralmente envolve o seguinte processo: gases inorgânicos são excitados para o estado de plasma; substâncias gasosas são adsorvidas na superfície sólida; os grupos adsorvidos reagem com moléculas na superfície sólida para formar moléculas de produto; as moléculas do produto se decompõem na fase gasosa; e os resíduos da reação são removidos da superfície.

A característica mais significativa da tecnologia de limpeza por plasma é que ela pode tratar qualquer tipo de substrato, incluindo metais, semicondutores, óxidos e a maioria dos materiais poliméricos, como polipropileno, poliéster, poliimida, cloreto de polivinila, epóxi e até mesmo politetrafluoroetileno. Pode limpar toda a superfície e áreas específicas, bem como estruturas complexas.